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電子廠潔凈室的除塵率要求

發(fā)布日期: 2025-04-25
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  電子廠潔凈室的除塵率要求主要取決于其潔凈度等級(jí)(如百級(jí)、千級(jí)、萬(wàn)級(jí)、十萬(wàn)級(jí)等),而不同等級(jí)對(duì)空氣中顆粒物的容許濃度有嚴(yán)格規(guī)定。以下是關(guān)鍵標(biāo)準(zhǔn)及要求:
 
  1. 潔凈度等級(jí)與顆粒物限制
 
  - 百級(jí)潔凈室:每立方米空氣中≥0.5μm的粒子數(shù)≤3,500個(gè),≥5μm的粒子數(shù)≤293個(gè)。
 
  - 千級(jí)潔凈室:≥0.5μm的粒子數(shù)≤35,200個(gè)/m³,≥5μm的粒子數(shù)≤2,930個(gè)/m³。
 
  - 萬(wàn)級(jí)潔凈室:≥0.5μm的粒子數(shù)≤352,000個(gè)/m³,≥5μm的粒子數(shù)≤2,930個(gè)/m³。
 
  - 十萬(wàn)級(jí)潔凈室:≥0.5μm的粒子數(shù)≤3,500,000個(gè)/m³,≥5μm的粒子數(shù)≤20,000個(gè)/m³。
 
  2. 除塵率要求
 
  - 高效過(guò)濾器(HEPA/ULPA):
 
  潔凈室通常要求末端過(guò)濾器對(duì)≥0.3μm顆粒的過(guò)濾效率≥99.97%(HEPA)或≥99.999%(ULPA),具體選擇取決于潔凈度等級(jí)。
 
  - 整體系統(tǒng)效率:
 
  通過(guò)初效、中效、高效三級(jí)過(guò)濾組合,綜合除塵率需確保達(dá)到對(duì)應(yīng)潔凈度等級(jí)的顆粒物限值。例如,十萬(wàn)級(jí)潔凈室的送風(fēng)系統(tǒng)需將初始空氣中的顆粒物濃度降低至標(biāo)準(zhǔn)值的1/10,000以下。
 
  3. 其他影響因素
 
  - 氣流組織:?jiǎn)蜗蛄?層流)潔凈室的除塵效率高于非單向流(亂流),需通過(guò)合理的氣流設(shè)計(jì)減少死角。
 
  - 正壓控制:潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)的壓差需≥10Pa,防止外部污染物進(jìn)入。
 
  - 靜電控制:電子廠潔凈室需維持濕度40%-60%,以減少靜電吸附顆粒。
 
  4. 實(shí)際應(yīng)用建議
 
  - 對(duì)于高精密電子制造(如半導(dǎo)體),通常要求千級(jí)或更高潔凈度,除塵率需接近100%。
 
  - 動(dòng)態(tài)環(huán)境下(如人員操作時(shí)),需通過(guò)增加換氣次數(shù)(如十萬(wàn)級(jí)換氣15-20次/小時(shí))維持除塵效果。
 
  總結(jié)
 
  電子廠潔凈室的除塵率并非固定百分比,而是通過(guò)過(guò)濾系統(tǒng)、氣流設(shè)計(jì)和環(huán)境控制共同實(shí)現(xiàn)對(duì)應(yīng)潔凈度等級(jí)的顆粒物限值。具體需根據(jù)生產(chǎn)工藝要求(如集成電路制程需百級(jí),普通封裝可接受萬(wàn)級(jí))選擇匹配的凈化方案。